长春光机极紫外光刻重大突破
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中国又一核心技术获得重大突破?

(这个歼十为一个典型例子)中国遥感8主载荷,其中就有长光机的相机,长光机熬出头了。我国在离轴三反光学系统先进制造技术上实现重大突破,为我国空间光学遥感器的跨越式发展打下了坚实基础。日前,这一由中科院长春光机所完...

三项关键专利接连发布,国产光刻机开启加速模式

公开资料显示,中科院、四川大学科研团队、长春光机所接连发布了三项关键性的光刻专利,涉及到了光刻技术的应用、光刻设备的制造、以及光刻技术的创新。首先,中科院发布了极紫外光源技术专利。光源作为EUV的核心技术之一,实现了...

一组关键数据出炉,国产芯片并非看起来这么欣欣向荣

首先我们并没有放弃研发国产光刻机,相关部门制定了三个重点研究方向:光学物镜、光源系统以及双工作台系统。而北大之前掌握的扫描透射电子显微镜技术属于光学物镜,长春光机所突破极紫外光源技术,另外清华大学协助华卓精科突破了...

光刻机是芯片制造的关键,现在在中国有哪些企业能够研制光刻机?_百度...

2016年11月15日,由长春光机所牵头承担的国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”项目顺利完成验收前现场测试。在长春光机所、成都光电所、上海光机所、中科院微电子所、北京理工大学、哈...

紫外超分辨光刻机最新消息

对于这次的突破,验收专家组的意见是:该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过国外相关知识产权壁垒。消息...

中国突破光刻机意味着什么?

光电所SP光学光刻机就是绕开了传统的193纳米曝光的技术路线,利用长波长光源也可以得到一个突破衍射极限的分辨率的图形,所以在成本上安全性方面上都会有一个很大的提升,是完全具有知识产权的原创性技术。我以前了解过,光刻...

中国首台7纳米光刻机

ASML新出的极紫外线光刻机可用于7纳米制程,价格高达1亿美元。除了ASML,其他光刻机供应商集中在美国和日本。最后,规模也是影响7纳米制程芯片量产的重要因素。正如台积电在官方博客中多次强调大批量生产一样,芯片生产讲究的是规模效应,前期...

清华大学传来好消息,中科院的布局初见成效,光刻机更进一步

国外有ASML这样的光刻机巨头,中国还有上海微电子、华卓精科、长春国科、北京国望光学等等众多的国产光刻机玩家。再加上中科院,清华大学这样国内顶级学府机构,再大的困难也会取得突破。有一就有二,有二就有三,有了这次...

中国光刻机技术如何了啊?

而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻,在突破关键领域以后,更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机,成功研制22nm光刻机,中国芯正在逐渐崛起。高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机...

我国光刻机发展怎么样了?光刻机在我国为何如此重要?

因此我国的大多数光刻机主要依赖于进口,只有少数的光刻机用在一些不太重要的科技岗位上。只要光刻机达到顶尖水平,我国的芯片研究就会得到一个质的突破。例如汽车芯片的研究,在我国除了自身的发展以外,大多数也依靠进口来...