发布网友 发布时间:2022-04-27 08:47
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热心网友 时间:2023-09-15 05:00
不是只能停留在跟随仿制光刻机的层面,而是我们连跟随仿制可能都做不到;虽然这话听起来有点扫兴,但是这就是我国的真实现状。要想生产出高端光刻机,需要很多领域的顶级供应商相互配合,下面我就简单列举下生产高端光刻机需要的三项技术,也好让大家知道制造自己的光刻机到底有多难。
超高精度的数控机床虽说我最近在抖音上也看到了不少工业的机床视频,但是那也仅限于高精度的机床领域,超高精度的数控机床依旧是我国目前的短板。现在有一种说法是一台光刻机就是欧洲和美国顶尖技术的杰作,这种说法在我看来并不为过。
一台光刻机至少有数万个零件,由于高端光刻机的对光的要求是纳米级,这就需要在加工光刻机零部件的时候也要超高的精度,并且对加工的材料和工艺都有严格的*,目前能达到这种工艺要求的国家也就只有德国一个。德国最顶尖的数控机床可以同时操控20个刀头,再搭配上3D激光扫描、GPS可以以每万转的速度对零件进行加工,这对生产超高精度零件至关重要。
需要顶级光源目前我们在手机上使用的芯片需要在一个指甲盖大小的植入上百亿多个晶体管,再加上相关的电路连接,这就需要光刻机的精度达到纳米级。要想做到这一点,那么顶级的光源必不可少。大家学习过物理的都知道从红光到紫光波长是越来越短的,高端光刻机一般使用的是极紫外光波长只有13nm左右,这让使用这种光变得异常困难。
目前一束正常的光源能使用的光只有0.02%,这就意味着在加大光源亮度的同时还需要一个非常有效的散热系统,这种光源目前只有Cymer公司才能提供。我国目前自研的光源波长是190nm左右;但是ASML已经在向2nm光源挺进了。
需要极紫外光(EUV)反射镜头目前市场上所有的高端光刻机极紫外光反射镜头都是出自一家德国的公司卡尔蔡司,这家企业基本上只要在光学领域的业务他们都或多或少的掺和上一脚。比较有名气的事件是美国早期的月球探测计划和阿波罗计划所需要的的光学元件基本上全部出自这家公司,这就足以说明他们实力确实强悍。
EUV光刻机在进行工作的时候每反射一次都会造成30%的能量损失,一束光源在多次反射后基本上所剩无几,这就需要高精度的反射镜头保证每次反射都能准确完成。目前在ASML目前主要的EUV光刻机上都是使用的卡尔蔡司
SMT
全反射4倍光学变焦镜头组件,如果没有和卡尔蔡司一直在光学领域保持的良好合作,EUV光刻机可能现在还只能停留在设想中。
ASML的一位高管曾经放放眼就算是中国拿到高端光刻机的图纸,也照样生产不出来高端光刻机,这还真不是一句大话。一台光刻机是世界上多个公司顶级技术的智慧结晶,再加上我国的光刻机起步晚基础差,想要追赶起来确实太难了。
可能很多朋友想知道中国的光刻机在多少年后可以追上ASML现在的标准,如果国家不计成本的给予资金和技术的投入,最乐观的估计也要十年之久。不过我们国家在进步的同时ASML也不会原地踏步,到时候还是要被它远远甩开的。
热心网友 时间:2023-09-15 05:00
10年后。因为我国的光刻机技术正在不断的发展,而且我国正在大力发展光刻机技术,所以10年后,我们很有可能可以研发制造出自己的高端光刻机。热心网友 时间:2023-09-15 05:01
等着五十年后!!!!!!热心网友 时间:2023-09-15 05:01
请给我们几年的时间,芯片我们能够自己做成全产业链的!!