溶解硅片用氢氧化钠和氢氟酸哪个好?
发布网友
发布时间:2022-04-29 10:29
我来回答
共1个回答
热心网友
时间:2022-06-26 05:31
氢氟酸是氟化氢的水溶液。它被用来制造大多数含氟化合物;例如常用的抗抑郁药物氟西汀(百忧解)和聚四氟乙烯(聚四氟乙烯)。它是一种无色溶液,腐蚀性很强,能够溶解许多物质,特别是氧化物,通常用于蚀刻玻璃和硅片。早在十七世纪,甚至更早,人们就知道它能溶解玻璃。[1]当氢氟酸接触到人体皮肤时,会引起深度烧伤。氢氟酸通常储存在塑料容器中(尽管聚四氟乙烯对氢氟酸有轻微的渗透性)。[2]
氟化氢气体是一种急性毒物,可能会立即和永久地损害肺部和眼睛的角膜。含水氢氟酸是一种接触毒物,有可能造成深度的、最初无痛的烧伤,并导致组织死亡。通过干扰人体钙代谢,浓酸还可能导致全身毒性,并最终导致心脏骤停和死亡。
IUPAC名
Hydrofluoric acid
其他名称
Fluorhydric acid;Hydronium fluoride
CAS号
7664-39-3
PubChem
14917
ChemSpider
14214
SMILES
F
InChI
1/FH/h1H
InChIKey
KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYAC
UN编号
UN编号
EINECS
231-634-8
ChEBI
29228
RTECS
MW7875000
化学式
HF(aq)
外观
无色溶液
密度
1.15 g/mL (浓度为48%的氢氟酸)
熔点
熔点
pKa
3.18
警示术语
R:R26/27/28-R35-R37
安全术语
S:S1/2-S7/9-S26-S36/37-S45
闪点
不可燃
其他阴离子
氢氯酸 氢溴酸 氢碘酸
其他阳离子
氟化钠 氟化钾 氟化钙
若非注明
所有数据均出自一般条件(25 ℃,100 kPa)下。
生产
实验室中用萤石(氟化钙 CaF2)和浓硫酸来制造氢氟酸。
加热到250摄氏度时,这两种物质便反应生成氟化氢。反应方程式为:
这个反应生成的蒸气是氟化氢、硫酸和其他几种副产品的混合物。在此之后氟化氢可以通过蒸馏来提纯。工业上的氢氟酸是通过用酸分解磷灰石获得的。
汽车发动机产生的气体中也有氟化氢。这是某些种类橡胶做的皮圈和软管在400℃下反应生成的。[2]
性质
氢原子和氟原子间结合的能力相对较强,使得氢氟酸在水中不能完全电离,因此理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸,但是氢氟酸却能够溶解很多其他酸都不能溶解的二
硅片为什么要用氢氟酸清洗?
总之,氢氟酸清洗对于硅片来说是一个有效的清洁处理方法,它能够去除有机物、金属杂质和氧化物,净化硅片表面,提高硅片的质量和性能。
硅片表的面氧化物如何去除?
氢氟酸是个挺强的腐蚀剂,它能够迅速地把硅片表面的氧化硅溶解掉。工作时得穿戴好防护装备,因为氢氟酸挺危险的。另外,有时候也会用到干法腐蚀,比如等离子体腐蚀,这个方法可以更加精确控制腐蚀过程,不过设备和操作上通常更复杂一些。
HF、HCl、HBr、HI都是强酸吗?它们的化学性质是什么?
腐蚀性强,对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。用氟气(F₂)溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片(与HNO3的混酸)。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强,使得氢氟酸在水中不能完全电离。氢氟酸能够溶解...
氢氟酸腐蚀硅片吗
腐蚀。氢氟酸会腐蚀硅片,不过腐蚀速率较慢,经常被用来做硅片的表面处理。氢氟酸(HydrofluoricAcid)是氟化氢气体的水溶液,清澈,无色、发烟的腐蚀性液体,有剧烈刺激性气味。
硅片腐蚀的注意事项
1. 在工序1和3中氢氧化钠溶液与硅片反应时会有碱蒸气产生,故设备运行时请关闭有机玻璃门。2. 盐酸是挥发性强酸,不不要去闻其味道。3. 氢氟酸会腐蚀玻璃,故不与玻璃器械接触,也不要去闻氢氟酸的味道。4. 如果酸或碱不小心溅入眼内或溅到脸上,请立即打开洗脸洗眼池上盖冲洗。
硅片的绒面具体要用什么碱液清洗 具体步骤是什么样子?要明细一点的
DHF清洗:用一定浓度的氢氟酸去除硅片表面的自然氧化膜,而附着在自然氧化膜上的金属也被溶解到清洗液中,同时DHF抑制了氧化膜的形成。此过程产生氟化氢和废氢氟酸。APM清洗: APM溶液由一定比例的NH4OH溶液、H2O2溶液组成,硅片表面由于H2O2氧化作用生成氧化膜(约6nm呈亲水性),该氧化膜又被NH4OH腐蚀,...
半导体硅片酸腐蚀去厚多少
半导体硅片在制造过程中常常需要进行酸腐蚀来去除表面的氧化层或控制硅片的厚度。酸腐蚀可以使用不同的酸溶液,如氢氟酸(HF)和氢氧化钾(KOH)溶液。去除的硅片厚度取决于腐蚀液的浓度、腐蚀时间和腐蚀条件等因素。一般来说,酸腐蚀可以去除几纳米至数十微米范围内的硅片厚度。具体去除的厚度取决于制造工艺...
硅片清洗和硅料清洗的目的有什么区别,,所用酸有什么区别
1. 硅料清洗的目的在于去除硅料表面的氧化层,这一过程通常使用氢氟酸(HF)进行。2. 硅片清洗,又称为制绒技术,其目的是通过化学处理增大硅片的受光面积,降低反射率,这一过程主要使用氢氟酸和其他化学品。3. 在硅料清洗中,主要使用的酸是氢氟酸。4. 硅片清洗过程中,除了氢氟酸,还会使用到硝酸。
浸泡硅料表面酸残留如何清洗
你说的硅片清洗和硅料清洗不一样,硅料清洗使用氢氟酸洗去硅料上的氧化层。而硅片清洗又被称为制绒,是通过化学品腐蚀硅片表面,使其受光面积增大,反射率降低的一种技术。硅料清洗只会用氢氟酸,而硅料清洗还会用到硝酸的。
硅片清洗工艺
将频率提高到超高频频段,清洗效果更好。二、化学清洗。化学清洗方法较多,有溶剂萃取、酸洗(硫酸、硝酸、王水、各种混合酸等)和等离子体法等。其中双氧水体系清洗方法效果好,环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性,将有机物分解而除去;用...