2020-02-28小刘科研笔记之以2 um线宽为例，浅析紫外光刻之多种曝光模式
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发布时间：2022-12-03 02:49
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时间：2023-11-13 18:57
SUSS紫外光刻机是设计用于实验室研发，小批量生产的高分辨率光刻系统。SUSS紫外光刻机具有以下几个特点：
1、样品尺寸选择性多：2英寸，3英寸，4英寸，6英寸和不规则小片恒定光强
2、曝光模式多样：真空曝光（vac），硬接触（hard），软接触（soft），近邻（prox）
3、最小线宽：0.8 μm（真空模式）
4、对准精度：0.5 μm
5、X-和Y-向位移精度在0.1 μm以下
6、均匀性：6英寸范围内保证2%的均匀性
7、高精度的间距设置
主要对比介绍 SUSS紫外光刻机的四种曝光模式 ，以2 um线宽四种曝光作业的效果为例。
1. 真空接触（vac） ：在掩膜版和基片中间抽气，形成微真空环境，使二者更加好的贴合。
2. 硬接触（hard） ：是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，进而与掩膜接触；
3. 软接触（soft） ：就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；
4. 接近式曝光（prox） ：掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（gap），gap大约为0~200 μm。
前三种统称为 接触式曝光 ，曝光精度一般排序：软<硬<真空接触，接触的越紧密，分辨率越高，当然接触的越紧密，掩膜版和衬底材料的损伤就越大， 适合科学研究及小批量试验方面应用。
接近式曝光对比接触式曝光 ，精度相对差，曝光小线宽精度差距尤其明显。然而，接近式曝光可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜版和光刻胶基底能耐久使用，掩模版寿命长(可提高10倍以上)，图形缺陷少，在现代光刻工艺中应用最为广泛， 适应用于宽线条量产，大批量生产 。
不积珪步，无以至千里；不积细流，无以成江海。做好每一份工作，都需要坚持不懈的学习。
