pvd镀膜中靶材被轰击出来的原子或者分子有没有收到电场,磁场的力学作用?@all

发布网友发布时间：2022-11-27 21:44

共2个回答

热心网友时间：2023-10-18 22:37

在物理气相沉积（PVD）过程中，靶材被轰击出的原子或分子在离开靶材表面后通常不会受到直接的电场或磁场的力学作用。以下是对这一过程的更详细解释：
在PVD过程中，主要使用的技术之一是磁控溅射。在磁控溅射中，一个带有靶材的阴极（负极）被置于真空室中，而阳极（正极）则是工件或衬底。在真空室中建立了较高的真空度后，通过施加电压和磁场，阴极上的靶材开始释放出原子或分子。
这个过程中，靶材被高能离子轰击，使得靶材表面的原子或分子被解离或溅射出来，然后通过惯性和热扩散等机制在基底表面沉积形成薄膜。在这个过程中，原子或分子的轨迹主要受到它们的能量和方向分布的影响。
在通常情况下，这些轰击出来的原子或分子没有受到直接的电场或磁场力学作用。电场和磁场在磁控溅射中的主要作用是加速离子并控制离子束的方向，以及产生磁场辅助溅射的效应。它们不直接影响已经离开靶材表面的原子或分子。
然而，值得注意的是，靶材表面和离开靶材的原子或分子在空间中仍然可能受到周围环境的影响，如离子束和气体分子的碰撞等。这些相互作用可能对原子或分子的能量和轨迹产生一定程度的影响。此外，在某些特殊情况下，通过施加辅助电场或磁场，也可以对沉积过程中的原子或分子进行定向控制，但这不是常规的PVD过程中的情况。

热心网友时间：2023-10-18 22:37

有收到。
PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不需再加工。
电磁场是电磁学里一种由带电物体产生的一种物理场。处于电磁场的带电物体会感受到电磁场的作用力。电磁场与带电物体之间的相互作用可以用麦克斯韦方程和洛伦兹力定律来描述。