麻烦英文高手帮我翻译一段文章!!

发布网友发布时间：2022-04-23 13:38

共2个回答

热心网友时间：2023-09-06 08:32

全不自动人工翻的喔~

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随着半导体的线宽已经超过65纳米，我们需要更为科学的清洁半导体的方法来解决纳米领域出现的种种新的问题。现在用低浓度混合物来清洗薄晶片的方法已经达到了登峰造极的地步，根据量子动力学的原理和集群的形成原理，人们把低浓度混合物的浓度降至了百万分之一以下。其中最重要的是要先将集群的性质分组。这项研究是半导体管内清洁应用的第一例研究，从而为我们比较美国无线电公司（RCA）晶圆厂的清洁水平提供了可能。
在1996年 Shui-Yin Lo教授（获得物理大奖的一中国的物理学家）就已经对在离子在冲淡环境下的集群和他们的物理特性。。。。
待续我去吃饭回来帮你整分儿留着给我哈

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超高频清洗技术的已经可以清洗掉管表面的灰尘粒子，当使用超高频清洗技术进行清理，集群水离子就会锁住在水中的灰尘粒子从而在晶圆片和新形成的粒子中形成ZETA潜质(我不知道这个是你们专业里的什么东东)。故，驱离水液，而后即可溢流清除掉灰尘粒子。这项研究也达到了其意图：比较和证明Particle Removal
Efficiency (PRE)RCA的新原理气*喷嘴除尘效率 of this new cleaning method with standard RCA Clean.

3The cleaning te Std 200mm RCA cleaning bench 这种流水线是由德国的STEAG公司生产出售的。这种循环恒温槽在SC-1浓度下运行。。。
待续没剩多少了明天上午帮你搞定

参考资料：身后的英语功底

热心网友时间：2023-09-06 08:32

作为半导体产业的动作过程线宽度为65纳米及以后的，是有需要一个新的清洁计划，解决各种新问题的探讨纳米世界。目前的趋势，低浓度混合物在关键的晶圆清洗，现在来其最终的*，减少浓度下降至一个单位数字ppm的水平，然后以超低浓度远远低于1 ppm的，利用一整新的一部分，物理：量子电动力学和形成“集群” 。首先，我们将概述的性质和良性的行为， “分组” 。研究主要集中在内置的测试结果第一群集清洁应用在半导*造环境使我们能够比较的表现群集清洁，以标准的RCA清洁的工厂。集群的形成，离子在很稀溶液和其物理性能已形容陈*尹卢古嘉利[ 1,2 ]在1996年。一旦megasonics能源超脱粒子小康表面上，群集水拥有粒子在流体，因为这是创造一个泽塔潜力之间的晶圆表面和现在液体承担粒子。因此，防止再就晶圆表面上，粒子，现在可以运送关闭
加工区由溢流冲洗。的范围，这方面的工作是为了证明和比较颗粒去除效率（前）这一新的清洗方法与标准的RCA清洁。
E
清洁德性病二零零毫米的RCA清洗台的供应steag 。这个循环浴正在运行一个标准的资深大律师- 1进程1时02分50秒@ 65 ° C和配备了metronics megasonics系统和一个数组12传感器重视底部的浴。为清洗效率200 mm晶圆测试，编写了约。 4000 氮化硅颗粒的沉积均匀就亲水性晶片表面。粒子数所确定的光散射s6xy0科军tencor 设备@ 0,2 μ m的另一套测试运行使用粒子直径在78nm 。创建群集水政务司*- 1000股纳米绿色科技公司当时，安装在洁净室旁边的RCA制度。这个工具创建群集水用氨气和megasonics 。
R
T
同时，作为前性病。 RCA的程序。然而，有一个显着性差异的去除率氧化硅。作为一体化种族的推移低刻蚀速率在清洁将是一个关键因素，一个成功的晶圆清洗的策略，使群集清洁纳米绿色科技股份有限公司[ 3 ]一个很有趣的新另为解决技术需求的今日尖端的生产和要求，这些年来。