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碳化硅SiC,第三代半导体功率器件怎么选?

发布网友 发布时间:2022-04-23 09:33

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热心网友 时间:2023-10-09 15:42

目前,以MOSFET、IGBT、晶闸管等为代表的主流功率器件在各自的频率段和电源功率段占有一席之地。

功率MOSFET的问世打开了高频应用的大门,这种电压控制型单极型器件,主要是通过栅极电压来控制漏极电流,因而它有一个显著特点就是驱动电路简单、驱动功率小,开关速度快,高频特性好,最高工作频率可达1MHz以上,适用于开关电源和高频感应加热等高频场合,且安全工作区广,没有二次击穿问题,耐破坏性强。缺点是电流容量小,耐压低,通态压降大,不适宜大功率装置。目前MOSFET主要应用于电压低于1000V,功率从几瓦到数千瓦的场合,广泛应用于充电器、适配器、电机控制、PC电源、通信电源、新能源发电、UPS、充电桩等场合。

IGBT综合了MOSFET和双极型晶体管的优势,有输入阻抗高,开关速度快,驱动电路简单等优点,又有输出电流密度大,通态压降下,电压耐压高的优势,电压一般从600V~6.5kV。IGBT优势通过施加正向门极电压形成沟道,提供晶体管基极电流使IGBT导通,反之,若提供反向门极电压则可消除沟道,使IGBT因流过反向门极电流而关断。比较而言,IGBT开关速度低于MOSFET,却明显高于GTR;IGBT的通态压降同GTR接近,但比功率MOSFET低很多;IGBT的电流、电压等级与GTR接近,而比功率MOSFET高。由于IGBT的综合优良性能,已经取代GTR,成为逆变器、UPS、变频器、电机驱动、大功率开关电源,尤其是现在炙手可热的电动汽车、高铁等电力电子装置中主流的器件。
陶瓷封装用碳化硅与第三代半导体碳化硅材料的区别

结构不同,应用不同。1、结构不同:陶瓷封装用碳化硅是以阿尔法sic或贝塔sic为主要成分的陶瓷材料,其晶体结构为六方晶系,包括六方密堆、四方密堆和菱形密堆,有大量的气孔和细小裂缝,使其具有优秀的绝缘性和高温耐性,而第三代半导体碳化硅则是一种多晶体材料,其晶体结构为立方晶系,具有良好的电特...

三分钟了解第三代半导体材料:碳化硅(SiC)

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第三代半导体材料爆发!氮化镓站上最强风口

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碳化硅 SiC

在第三代半导体器件的成本构成中,衬底和外延占据了70%的份额,其中SiC功率器件的贡献尤为显著,如SBD替代FRD和MOSFET替代IGBT。沟槽型MOSFET尽管结构复杂,但性能优势显著,是功率器件市场的重要竞争者。碳化硅器件以其低损耗、高频率的特性,正在新能源车领域崭露头角,尤其是在800V电动汽车平台中,其效率...

碳化硅是第三代半导体重要的材料-科学指南针

1. 碳化硅(SiC)作为第三代半导体的关键材料,正逐渐改变电子行业的格局,得益于其卓越的性能特点。2. SiC以其高硬度、优异的导热性以及半导体特性而闻名,这些特性使其在多个领域中独树一帜,包括磨料、耐火材料和电热元件的应用,特别是在耐磨涂层、LED以及功率器件的生产中发挥重要作用。3. SiC的特性...

第三代半导体材料都有什么?

1. 第三代半导体材料主要包括碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氧化锌(ZnO)、金刚石(C)等。2. 自1995年起,我国开始研究第三代半导体材料。3. 碳化硅因其耐高压、耐高温和低能量损耗的特性,被认为是5G通信晶片中最理想的衬底材料。4. 氮化镓由于其高临界磁场和高电子迁移率的特点,成为超高频器件的理想...

SiC和GaN,新兴功率器件如何选?

在选择SiC(碳化硅)和GaN(氮化镓)这两种新兴功率器件时,以下几个关键因素应被考虑:1. 应用环境:- 对于工作频率超过200KHz的系统,GaN晶体管是首选,其次是SiC MOSFET。- 若系统工作频率低于200KHz,两者均适用。2. 能耗要求:- GaN在低电流、高开关频率的应用中表现优异,因其无需辅助结构和较低...

第三代半导体材料有哪些?

2、氮化镓(GaN)氮化镓是氮和镓的化合物,是一种III族和V族的直接能隙的半导体,自1990年起常用在发光二极管中。此化合物结构类似纤锌矿,硬度很高。氮化镓的能隙很宽,为3.4电子伏特,可以用在高功率、高速的光电元件中,例如氮化镓可以用在紫光的激光二极管,可以在不使用非线性半导体泵浦固体激光的...

SiC和GaN,新兴功率器件如何选?

在选择SiC(碳化硅)和GaN(氮化镓),这两种新型功率半导体材料时,需要考虑以下几个主要方面:1. 应用环境:如果所应用系统需要在超过200KHz以上的频率工作,首选GaN晶体管,次选SiC MOSFET;若工作频率低于200KHz,两者都可以使用。2. 能耗要求:GaN在较低电流和较高开关频率的应用中,由于其无需反恐...

第三代半导体材料都有什么?

第三代半导体材料以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氧化锌(ZnO)、金刚石(C)为代表,我国从1995年开始涉足第三代半导体材料的研究。其中,碳化硅凭借其耐高压、耐高温、低能量损耗等特性被认为是5G通信晶片中最理想的衬底,氮化镓则凭借其高临界磁场、高电子迁移率的特点被认为是超高频器件的绝佳选择。需要...

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