发布网友 发布时间:2022-05-10 03:00
共1个回答
热心网友 时间:2023-11-16 05:33
咨询记录 · 回答于2021-12-15真空镀膜偏压选取偏压高低决定的是轰击离子的能量大小,而占空比大小则决定轰击离子的数量,两者搭配使用并没有一个固定的公式,如果非要定性两者关系的话,我觉得用“两者相乘等于轰击效果”来形容会比较恰当些。换句话说,只要在膜层结合力要求的范围内,很多种参数包括高偏压低占空比或者低偏压高占空比,都是可以的。我在五金手机壳镀膜时,试过多种参数,在膜层不厚的时候,都看不出差异来,试过用30的占空比有出现过掉膜,最后是选了个比较折中位置的参数,大概是100伏偏压,60的占空比。