浅谈在长沟道和短沟道下MOS管的Vdsat和Vov的区别和联系
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发布时间:2024-10-15 08:57
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时间:2024-12-05 23:29
在电子器件中,MOS管的Vdsat和Vov是两个关键参数,分别代表了不同的工作状态。Vdsat,即饱和漏源电压,当MOS管进入刚性状态或即将关闭时,漏源电压达到这个值。在长沟道条件下,Vdsat的计算简单,等于栅源电压Vgs减去阈值电压Vth,Vov(过驱动电压)同样等于这个差值,因此在长沟道中,Vdsat和Vov是相等的。
然而,短沟道效应改变了这一规律。由于二阶效应,短沟道中的MOS管在电流饱和之前,Vdsat就可能达到。沟道内的多子由于速度饱和效应,当Vds达到Vdsat时,电流饱和不再增加,即使Vds还没达到Vov。在短沟道器件中,Vdsat的出现标志着饱和,而Vov是夹断(pich-off)的触发点。简而言之,短沟道的情况是先饱和(Vdsat)后夹断(Vov)。
为了确保稳定工作,通常在实际应用中,Vds和Vdsat之间会预留一定的余量,比如200mV,这样可以防止因电压波动导致的不必要的过驱动或提前夹断。